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理研計(jì)器|半導(dǎo)體工藝全流程之摻雜工藝

發(fā)布時(shí)間:2023-06-14

每個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造都需要數(shù)百個(gè)工藝,我們將整個(gè)制造過(guò)程分為八個(gè)步驟:晶圓加工-氧化-光刻-刻蝕-薄膜沉積-外延生長(zhǎng)-擴(kuò)散-離子注入。

為幫助大家了解和認(rèn)識(shí)半導(dǎo)體及相關(guān)工藝,我們將每期推送微信文章,為大家逐一介紹上述每個(gè)步驟。

前面我們聊了半導(dǎo)體的諸多工藝流程,今天我們來(lái)聊聊半導(dǎo)體工藝的最后兩個(gè)環(huán)節(jié)---半導(dǎo)體器件的“摻雜”工藝。

就像做飯一樣,需要放入各種調(diào)料才能做出色香味俱全,放多了會(huì)咸,放少了不入味兒,摻雜就相當(dāng)于半導(dǎo)體中“添油加醋”的過(guò)程和目的……

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